林枞个展——遗迹

可以画廊将于2021年1月8日举办2021年开年首展，本次展览荣幸邀请林枞为大家带来个展“遗迹”。将完整呈现艺术家近年来的近四十件重要作品。

这是⼀个基于“算法”⽣成的展览，探究⼀种“绘画”的⽣成⽅式。展出的这批作品是以在计算机软件中的逻辑（形体模型——材质附加——形成物像世界）来⽣成，同时也实践了在⼀个“算法”逻辑下作为创作主体的⼈将感性的体验和实践中产⽣的“意外”如何与“算法”结合来⽣成绘画，这中间产⽣的“之间”的质感和感受是令我着迷的。作品的素材⼤致分为三种类型1.传统的艺术图像2.来⾃⾃⼰现实的拍摄3.来⾃于⽹络图像。这三种类型图像的共同点是它们都在我计算机的⽂件夹中同质化了，同时也都来⾃于“过去”。所以我视它们为⼀种“电⼦遗迹”。

其中的13件作品⽤3D打印构件与平⾯作品结合增强这种“遗迹”感。布展的设置也是基于这种⽅式⽣成的，在⼀个名为SkrtchUp的软件中，空间的⽣成⽅式基于平⾯图的线框，拉动线框形成凸出的空间，推动线框来形成凹陷的空间。展厅的设计模拟了这种空间的⽣成逻辑，展厅中的⿊⾊线框表示了⼀种“初始”状态同时也可以是⼀种推倒后”遗迹“的状态，时间在这⾥⾯是没有⽅向性的。观众可以通过⾃⼰的想象来编造这个遗迹的初始或完成状态。

（文：林枞）

关于艺术家

林枞，1984年出生于福建，2006毕业于福建师范大学美术学院油画专业，现为职业艺术家，现工作生活于上海。

近期展览：“约翰摩尔绘画奖” 上海 民生银行美术馆 群展（2020）;“临时关系”，北京 妙有艺术 个展（2019）;“2018中国当代艺术年鉴展” 北京 民生美术馆 群展（2019）；“重塑”，北京 妙有艺术 个展（2018）；“鳌头凤岭”，上海 亦安画廊 个展（2018）。